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主營產品： 光學設備、電子計測儀器、科學儀器、機械加工設備、環(huán)境試驗設備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學用品、FA自動化
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產品資料

無掩膜曝光設備
產品型號：MX-1201
簡介：

無掩膜曝光設備MX-1201 無掩膜曝光設備利用獨自的高速描畫「Point Off Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。 無掩膜曝光機,是通過美國德州儀器公司制造的Digital Micromirror Device（DMD)來形成曝光圖形,因此不需要掩膜。 由于不需要制作掩膜,所以可降低成本和縮短曝光前時間。特別適合少量多品種的生產及研究開發(fā)等。

無掩膜曝光設備  的詳細介紹

無掩膜曝光設備MX-1201

深圳市京都玉崎電子有限公司
項目擔當：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網址：www.dghfjs.com

無掩膜曝光設備


無掩膜曝光裝置

由合資企業(yè)INDEX Technologies株式會社開發(fā)

利用獨自的高速描畫「Point Off Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。

無掩膜曝光技術
主要特長無掩膜曝光設備
  • 能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產等的直描曝光。
  • 能夠對應以**PCB、高密度Packaging、平板顯示(FPD)等為首的MEMS等微細加工領域。
  • 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。
  • 此外,還可以根據客戶需求,提供相應的裝置構造。
マスクレス露光裝置
主要規(guī)格無掩膜曝光設備
  MX-1101 MX-1201 MX-1301E MX-1702
*小線幅 (※1) 5μm 5μm 3μm 10μm
數據分辨率 0.5μm 0.5μm 0.25μm 1.0μm
*大基板尺寸 100 x 100mm 200 x 200mm 300 x 300mm 550 x 650mm
有效曝光范圍 100 x 100mm 200 x 200mm 300 x 300mm 550 x 650mm
激光主波長 375±5nm 405±5nm
曝光掃描速度 43.9mm/s 22.5mm/s 92.2mm/s
光學引擎裝配數量 1 7


無掩膜曝光設備因光刻膠和顯影條件而異。