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主營(yíng)產(chǎn)品： 光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測(cè)儀器、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學(xué)用品、FA自動(dòng)化
產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品資料

化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：MA-4000
簡(jiǎn)介：

化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備MA-4000 化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備把涂有光刻膠的基板與掩膜重疊，光刻圖形的曝光裝置。為了實(shí)現(xiàn)多層曝光時(shí)的自動(dòng)對(duì)位，裝配有顯微鏡和X?Y?θ對(duì)位臺(tái)。自動(dòng)進(jìn)行基板的供給、對(duì)位、曝光、排出。。

化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備  的詳細(xì)介紹

化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備MA-4000

深圳市京都玉崎電子有限公司
項(xiàng)目擔(dān)當(dāng)：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網(wǎng)址：www.dghfjs.com

化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備

化合物半導(dǎo)體用曝光裝置(Mask Aligner)

把涂有光刻膠的基板與掩膜重疊，光刻圖形的曝光裝置。為了實(shí)現(xiàn)多層曝光時(shí)的自動(dòng)對(duì)位，裝配有顯微鏡和X?Y?θ對(duì)位臺(tái)。自動(dòng)進(jìn)行基板的供給、對(duì)位、曝光、排出。

主要特長(zhǎng)化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備
  • 采用獨(dú)自的平行調(diào)整機(jī)構(gòu),能夠高精度地設(shè)定掩膜與Wafer間的近接間隙。
  • 利用獨(dú)自的高速圖像處理技術(shù),實(shí)現(xiàn)高精度的對(duì)位。
  • 利用圖像處理技術(shù),使預(yù)對(duì)位可對(duì)應(yīng)薄型基板或翹曲基板及水晶等易碎Wafer(選購(gòu)項(xiàng))。
  • 利用獨(dú)自的接觸壓力精密控制機(jī)構(gòu),能夠使Wafer與掩膜高精度地接觸。
  • 通過(guò)Wafer的背面真空吸著方式,實(shí)現(xiàn)高速度和高精度以及穩(wěn)定的自動(dòng)搬送。
MA-4000裝置畫(huà)像
MA-4000タクトアップ機(jī)畫(huà)像
主要規(guī)格化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備
  MA-4000
Wafer尺寸 ?2～4" ?4～6"
掩膜尺寸 □5" □7"
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W1340 x D1430 x H1900mm
本體重量 1120kg
選購(gòu)項(xiàng) 生產(chǎn)管理系統(tǒng)(D-Net)、背面對(duì)位、○□基板兼用

化合物半導(dǎo)體用曝光設(shè)備基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽