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主營(yíng)產(chǎn)品： 光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測(cè)儀器、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學(xué)用品、FA自動(dòng)化
產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品資料

基板用接近曝光設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：MA-6131ML
簡(jiǎn)介：

G3~G5基板用接近曝光設(shè)備MA-6131ML 基板用接近曝光設(shè)備裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機(jī)EL等的量產(chǎn)。

基板用接近曝光設(shè)備  的詳細(xì)介紹

G3~G5基板用接近曝光設(shè)備MA-6131ML

深圳市京都玉崎電子有限公司
項(xiàng)目擔(dān)當(dāng)：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網(wǎng)址：www.dghfjs.com

基板用接近曝光設(shè)備


G3～G5基板用直立型近接曝光裝置

通過掩膜與基板的垂直放置,來減少翹曲的直立型近接曝光機(jī)。對(duì)應(yīng)水平搬送型前后處理裝置的聯(lián)機(jī)。

主要特長(zhǎng)

         基板用接近曝光設(shè)備
  • 直立配置掩膜臺(tái)/基板臺(tái)。不需補(bǔ)正由掩膜/掩膜臺(tái)/基板臺(tái)的自身重量而造成的彎曲變形,構(gòu)造簡(jiǎn)單，安定性高。
  • 采用新型光學(xué)系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實(shí)現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。
  • 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準(zhǔn)。
  • 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺(tái)溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購(gòu)項(xiàng))
  • *大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨(dú)自的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了均勻的一次性曝光。
  • 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫(kù)
主要規(guī)格基板用接近曝光設(shè)備
  MA-6701ML MA-6801ML MA-6131ML
基板尺寸 550 x 650mm 650 x 750mm 1100 x 1300mm
掩膜尺寸 620 x 720 x t8.0mm 700 x 800 x t8.0mm  1200 x 1400 x t4.8mm
對(duì)位 非接觸預(yù)對(duì)位～自動(dòng)對(duì)位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈 ：8kW 超高壓水銀燈 ：8kW 超高壓水銀燈 ：18kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W3500 x D2720 x H2700 mm W4150 x D3200 x H2900 mm W11300 x D7060 x H3350 mm
本體重量 3500kg 3800kg 12700kg
光源重量 800kg 1150kg 4200kg
選購(gòu)項(xiàng) 掩膜冷卻、基板臺(tái)溫度調(diào)節(jié)、溫控機(jī)房、特殊對(duì)位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機(jī)EL、C－STN、電子紙等

基板用接近曝光設(shè)備基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽